• 氧化物TFT器件與集成技術工程實驗室

    2014-04-09 11:09:42
    氧化物TFT器件與集成技術工程實驗室
    Oxide Semiconductor Device and Circuit Technology Laboratory
     
    實驗室簡介
        實驗室圍繞氧化物半導體薄膜晶體管器件研發和集成領域的發展需要,開展相關產業關鍵技術攻關、重要技術標準研究制訂,凝聚、培養產業技術創新人才。實驗室 現有場地800平方米,購置了磁控濺射臺、OLED蒸鍍設備、TFT特性測試儀等大型軟硬件設備,開展氧化物TFT器件、氧化物TFT-OLED、新型氧 化物TFT材料以及器件封裝和測試等核心技術,開展氧化物TFT面板制造和驅動電路設計等關鍵技術攻關。

    研究方向
    (1)氧化物TFT器件與集成工藝、
    (2)氧化物TFT-OLED加工工藝
    (3)新型氧化物TFT材料與工藝;
    (4)氧化物TFT集成電路設計亚博电子游戏官网;
    亚博电子游戏官网