• 磁控濺射臺(SKE102011)

    2017-05-04 15:06:45

    儀器型號:SKE102011

    生產商:臺灣矽基科技有限公司

    應用范圍:

        本設備為雙腔室濺射臺,反應室設置有4個靶位,靶材尺寸為直徑76.2mm*60mm厚的圓靶材,樣品尺寸≦4inch,樣品托盤可旋轉,鍍膜均勻,雙腔之間用機械手進行傳遞,通過電腦界面自動控制,操作簡便。電源配有DC/RF兩種亚博电子游戏官网,設備配有高抽速分子泵,本底真空度高??捎糜跒R射各種單層或者多層金屬及氧化物膜層,并帶有偏壓濺射、共濺射、等離子清洗等功能,襯底加熱最高400度。(備注:本實驗室配有數十種金屬及氧化物靶材供選擇)。

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