• 等離子增強化學氣相沉積&反應離子刻蝕機系統

    2017-05-04 15:19:19

    儀器型號:SKE102012   PECVD & RIE

    生產商:臺灣矽基科技有限公司

    應用范圍:

        設備包括PECVD系統及RIE系統,兩個系統公用一套電源系統,設備自動化程度高亚博电子游戏官网,操作方便亚博电子游戏官网,PECVD可用于在基片上沉積SiO2、Si3N4等介質薄膜,RIE(反應離子刻蝕)設備兼有物理和化學作用對各種金屬、氧化物膜等進行刻蝕,設備配有O2,N2O,NH3,CF4,SF6,SIH4,H2等氣體供選擇進行長膜或者刻蝕亚博电子游戏官网。

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